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    凯发国际简介

    电子化学品材料

    半导体显示用产品

    光刻胶剥离液

    剥离光刻胶效果好，对其它膜层无腐蚀，安全环保，回收率高。

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    光刻胶剥离液

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    蚀刻液

    可蚀刻 Cu/Ag/Al/Mo/Nb/Ti 等膜层，选择比高。

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    集成电路用产品

    光刻胶剥离液

    适用于前道/后道/先进封装(如 RDL 等)等制程。剥离光刻胶效果好(包括厚膜光刻胶)，对其它膜层无腐蚀，安全环保。

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    光刻胶剥离液

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    蚀刻液

    适用于金属和非金属膜层，高选择比，保持良好 Profile。

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    蚀刻液

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    清洗液

    高纯IPA，用于马兰戈尼方式的清洗与干燥。

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